Временная зависимость глубины силицированного слоя

Во многих работах временная зависимость глубины силицированного слоя представлена плавной кривой. Правда, соответствующие опыты проводили с печным нагревом в течение десятков минут или нескольких часов, что уменьшало вероятность обнаружения кратковременных (в наших исследованиях — десятки секунд) отклонений от монотонного роста. В экспериментах с применением электронагрева при наличии частой последовательности экспериментальных точек, точного контроля температуры с помощью приваренной безинерционнои термопары и быстродействующих приборов немонотонность роста толщины слоя во времени была обнаружена почти при всех исследованных режимах силицирования.

Обратите внимание, для повышения эффективности деятельности сотрудников офиса необходимо обеспечить для каждого из них комфортное рабочее место. Качественная офисная мебель - это не только столы для персонала и президент-комплекты, но также мебель для приемных и офисных кухонь.

Периоды уменьшения толщины слоя на изотерме только при 1100° С совпадают по времени с уменьшением количества пор в слое, видимых при оптических увеличениях. При 900° С уменьшение толщины слоя, обусловленное спеканием, происходит вслед за уменьшением пористости в слое. При 1000° С в большинстве рассмотренных случаев периоды уменьшения пористости и глубины слоя несколько перекрываются при некотором опережении первого процесса. По нашему мнению, во всех этих случаях уменьшение глубины слоя обусловлено его спеканием. Вероятно, при низких (900° С) температурах силицирования «растворение» пор в слое и уменьшение размеров последнего, обусловленное повакансионным выходом пор, не совпадают во времени из-за малых скоростей диффузии. При высоких температурах слой спекается практически одновременно с исчезновением в нем пор.

Изучение кинетики перемещения внутренней и внешней границ слоя дает дополнительную информацию о механизме его формирования. Цикличность этого перемещения находится в соответствии с характером изменения пористости и немонотонным ростом слоя. Первоначальное движение внутренней границы слоя (сплошная кривая) к сердцевине образца, обусловленное, по-видимому, уходом железа в газовую фазу и диффузией кремния в направлении концентрационного градиента, сменяется периодом обратного перемещения, что свидетельствует о восходящей диффузии кремния в направлении к слою, обогащенному кремнием. Восходящая диффузия атомов может быть обусловлена наличием напряжений или дефектов в структуре сплава. В рассматриваемом случае такими дефектами являются поры.